真空在涂裝工藝中的應用
就鍍膜工藝而言，真空的應用體現在哪些方面？
在許多鍍膜工藝中（例如：金屬、塑料或玻璃以蒸汽形態沉積），真空扮演著決定性的作用。在很多情況下，離開真空，就無法實現這些工藝。一般在工藝開始之初，對腔室施加中度或高度真空，以便真空排氣，再抽除反應氣體或者氣化固體原材料。
這些鍍膜工藝都有一個共同的要求：腔室必須保持符合鍍膜工藝要求的中度或高度真空。這些鍍膜工藝有助于改變材料的表面特征，例如硬度或耐腐蝕性。此外，真空鍍膜也可以改善材料的附著性或濕潤性，或者讓材料表面保持疏水性或親水性。
意大利DVP真空蹦的哪些真空解決方案尤其適合鍍膜工藝？
我們提供大量不同的鍍膜工藝真空解決方案，除了獨立式真空泵，也供應全套真空系統。L-C單級旋片真空泵適用于鍍膜工藝，實踐證明，DVP旋片真空泵結合羅茨真空泵是中度真空鍍膜應用的標準解決方案。赫哲真空還可提供型號的變距螺桿真空泵和羅茨真空泵，使真空系統的設計達到鍍膜工藝的要求。如果需要高度真空，我們有渦輪分子真空泵和擴散真空泵，將這類泵與前級泵組合即可滿足鍍膜工藝要求。
赫哲真空在鍍膜工藝中的應用范例：
物**相沉積（PVD）
化學氣相沉積（CVD )
等離子增強沉積
金屬鍍膜
